文献类型：期刊文章

作　　者：朱继国[1] 柴卫平[1] 王华林[1] 张树旺[1] 刘世民[1] 张粲[1] 汪亚辉[1]

机构地区：[1]大连交通大学材料科学与工程学院,光电材料与器件研究所,辽宁大连116028

出　　处：《光学仪器》

基　　金：大连交通大学人才引进启动基金资助项目(021403)

年　　份：2008

卷　　号：30

期　　号：3

起止页码：55-59

语　　种：中文

收录情况：普通刊

摘　　要：采用直流脉冲磁控溅射方法在SLG衬底上沉积CIGS太阳电池背接触Mo薄膜，研究了薄膜的光学和电学性能随厚度的变化关系。结果表明，随着薄膜厚度的增加，薄膜的电阻率先降低后增加，在厚度284．3nm处电阻率最低，为7．3×10^-4Ω·cm。不同厚度的Mo薄膜在各个波长处（200～840nm）反射率都随波长的增加而增大。随着薄膜厚度的增加，平均反射率总的呈下降趋势，在薄膜厚度284．3nm时出现一反射率高峰，其在200-840nm波长范围内的平均反射率达43．33％。

关 键 词：MO薄膜 直流脉冲磁控溅射(DC-PMS)  电阻率 反射率

分 类 号：O484]