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期刊文章详细信息

热浸镀中硅反应性研究  ( EI收录 SCI收录)  

A STUDY OF THE SILICON REACTIVITY IN GALVANIZING

  

文献类型:期刊文章

作  者:苏旭平[1] 李智[2] 尹付成[1] 贺跃辉[3] 潘世文[2]

机构地区:[1]湘潭大学机械工程学院,湘潭411105 [2]湘潭大学材料设计及制备技术湖南省重点实验室,湘潭411105 [3]中南大学粉末冶金国家重点实验室,长沙410083

出  处:《金属学报》

基  金:国家自然科学基金项目50671088;国家教育部新世纪优秀人才支持计划NECT-04-778资助

年  份:2008

卷  号:44

期  号:6

起止页码:718-722

语  种:中文

收录情况:AJ、BDHX、BDHX2004、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI、INSPEC、JST、SCI(收录号:WOS:000257410200015)、SCI-EXPANDED(收录号:WOS:000257410200015)、SCIE、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、核心刊

摘  要:根据对Zn-Fe-Si三元体系的热力学评估计算和实验研究,体系中Si的化学位随Zn含量的增加而迅速提高,通过高温镀锌实验分析了diffuse-△(δ相+锌液)区域形成的原因,阐述了热浸镀锌中硅反应性的机理,镀层中的Si有向Fe含量高的相(特别是δ/ζ相界附近的δ相)、δ/ζ相界及(相晶界富集的趋势,随时间推移,扩散通道向富Si端移动,切过ζ相与液相两相平衡的共轭线,导致ζ相晶界附近出现的液体容纳Si,形成液体通道,液相穿过ζ相并与外面的锌液连接,液体直接与δ相接触,导致微应力的出现,液体可以沿着微裂纹腐蚀δ相,形成破碎的diffuse-△区域,锌液直接侵蚀基体,镀层生长受界面反应控制,镀层的线性生长导致形成较厚的镀层。

关 键 词:ZN Zr-Fe-Si系  热浸镀 硅反应性  热力学  

分 类 号:TG111.3] TG111.5]

参考文献:

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同被引文献:

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