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电致变色WO_3薄膜的结构与光电性能研究
A STUDY OF THE STRUCTURE AND PHOTOELECTRIC PROPERTIES OF ELECTROCHROMIC WO 3 FILMS
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]南京大学物理系 [2]南京大学分析中心
年 份：1997
卷 号：33
期 号：4
起止页码：518-526
语 种：中文
收录情况：AJ、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、JST、MR、RCCSE、ZGKJHX、ZMATH、普通刊
摘 要：对电致变色ＷＯ３薄膜的结构与光电性能进行了研究．首先从ＷＯ３薄膜的微观结构、电子能态出发，分析了电化学反应导致ＷＯ３薄膜光吸收并着色的机理；其次介绍了ＷＯ３薄膜的制作方法和过程．采用真空电子枪将热压块状ＷＯ３（纯度９９．９％）蒸镀在普通玻璃衬底上，然后用多种物理手段测试了ＷＯ３薄膜的性能与工艺参数的关系，如ＸＲＤ、ＸＰＳ．选择适当的工艺参数可使得膜层的特性达到最佳．
关 键 词：电致变色 薄膜 光电特性 三氧化钨
分 类 号：O484.1] O484.4[物理学类]
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