期刊文章详细信息
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]河北工业大学材料研究中心,天津300130
基 金:河北省自然科学基金
年 份:1997
卷 号:26
期 号:4
起止页码:16-19
语 种:中文
收录情况:AJ、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、INSPEC、ZGKJHX、ZMATH、普通刊
摘 要:采用电化学腐蚀法制备多孔硅(PS),测量了防在近红外光(800nm)激发下的光致发光(PL)谱和光致发光激发(PLE)谱,结果表明PS具有良好的上转换荧光特性,并随着存放时间的延长,在一定期限内峰值强度有明显的增强.这种非线性光学响应的增强,被认为与空间量子限制效应作用下局域束缚激于被激发有关.硅片初始电阻车越低,发光强度越大.
关 键 词:多孔硅 光激发 上转换 荧光
分 类 号:TN204] TN304.12
参考文献:
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