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期刊文章详细信息

ITO靶材的研究与发展    

Research and Development of ITO Target Material

  

文献类型:期刊文章

作  者:阮进[1] 陈敬超[1] 于杰[2] 杜晔平[1]

机构地区:[1]昆明理工大学稀贵及有色金属先进材料教育部重点实验室云南省新材料制备与加工重点实验室,昆明650093 [2]昆明理工大学材料与冶金工程学院,昆明650093

出  处:《电工材料》

基  金:973计划前期研究专项(2008CB617609)

年  份:2008

期  号:2

起止页码:35-37

语  种:中文

收录情况:CAS、普通刊

摘  要:简要介绍了铟(In)的用途及国内铟产业的现状。重点介绍了国内外ITO(铟锡氧化物)靶材的研究现状、主要制备方法(热等静压法、热压法和烧结法)及发展趋势。

关 键 词:铟(In)  ITO(铟锡氧化物)靶材  制备方法  

分 类 号:TM205.1[材料类]

参考文献:

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二级参考文献:

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耦合文献:

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引证文献:

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二级引证文献:

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同被引文献:

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