期刊文章详细信息
热丝CVD法变压沉积金刚石薄膜
HOT FILAMENT CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION OF DIAMOND FILM BY CHANGING PRESSURE
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]湖南大学材料测试研究中心
基 金：湖南省计委和科委资助项目委资助
年 份：1997
卷 号：17
期 号：3
起止页码：72-74
语 种：中文
收录情况：BDHX、BDHX1996、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD_E2011_2012、JST、ZGKJHX、核心刊
摘 要：在热丝化学气相沉积系统中，采用变压沉积金刚石薄膜，晶粒生长速率显著提高，而孪晶密度下降。
关 键 词：金刚石 薄膜 孪晶 变压 热丝 CVD
分 类 号：O484.1]
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