期刊文章详细信息
X射线衍射里特沃尔德全谱图拟合法测定粉尘中游离的SiO2 ( EI收录 SCI收录)
Determination of Weight Concentration of Free Silicon Dioxide for Dust Using X-ray Diffraction Technique and Rietveld Refinement Method
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]广西大学物理科学与工程技术学院材料科学研究所,南宁530004 [2]广西大学化学化工学院,南宁530004 [3]广西职业病防治研究所,南宁530021
基 金:广西自然科学基金(No.0728166);广西卫生厅资助基金(No.20038);广西大型仪器协作公共网资助
年 份:2008
卷 号:36
期 号:5
起止页码:599-603
语 种:中文
收录情况:AJ、BDHX、BDHX2004、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EBSCO、EI、IC、JST、RCCSE、RSC、SCI(收录号:WOS:000257902600007)、SCI-EXPANDED(收录号:WOS:000257902600007)、SCIE、SCOPUS、UPD、WOS、ZGKJHX、核心刊
摘 要:应用X射线衍射技术与Rietveld全谱图拟合法测定了粉尘中游离SiO2的含量,并同时得到粉尘样品中其它晶相和非晶相物质的含量。实验采用日本理学D/MAX2500V型X射线衍射仪,CuKα辐射带石墨单色器,管电压44kV,管电流150mA,步进扫描收集衍射数据,经Jade5.0软件定性分析,DBWS9807a软件定量分析,结果为:Rp平均等于11.29%,Rwp平均等于13.74%,Rexpected平均等于4.04%。SiO2在各样品中的含量为15.61%-37.83%;加标回收率为102.6%-119.9%;重现性测定相对标准偏差(RSD)为1.14%。结果表明:用Rietveld全谱图拟合法测定粉尘中游离SiO2的含量是一种快速、准确、方便的方法。
关 键 词:定量分析 游离二氧化硅 非晶体 X射线衍射 Rietveld全谱图拟合法
分 类 号:R134]
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