文献类型：期刊文章

作　　者：姜迪友[1] 刘德生[1] 欧阳小芳[1] 叶志清[1] 雷敏生[1]

机构地区：[1]江西师范大学物理与通信电子学院物理系

出　　处：《江西科学》

基　　金：国家自然科学基金(编号:10564002);江西省自然科学基金(编号:0512017);江西省教育科研基金(编号:GJJ(2005)73)

年　　份：2008

卷　　号：26

期　　号：2

起止页码：204-207

语　　种：中文

收录情况：普通刊

摘　　要：用脉冲激光沉积(PLD),分别在不锈钢和单晶硅(111)衬底上生长了LiMn2O4薄膜,并对所生长LiMn2O4薄膜的结构进行了研究。结果发现,生长在不锈钢衬底上的薄膜具有粗糙的表面和随机的结晶取向,生长在单晶硅衬底上的薄膜具有相对光滑的表面,并具有明显的(111)方向上的择优取向。还研究了脉冲频率和总脉冲数对薄膜生长的影响,结果显示,在相同的沉积条件下,对于不同衬底,LiMn2O4薄膜的生长率不同;脉冲频率对薄膜生长的影响明显,在相同总脉冲数情况下,脉冲频率大,薄膜生长率明显增大。

关 键 词：脉冲激光沉积 薄膜  锂离子电池

分 类 号：O484.43]