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期刊文章详细信息

热浸镀铝的研究动态  ( EI收录)  

Current Researches and Status of Hot Dip Aluminizing

  

文献类型:期刊文章

作  者:李磊[1,2] 桑革[3] 蒋刚[1]

机构地区:[1]四川大学原子与分子物理研究所 [2]表面物理与化学国家重点实验室,绵阳621907 [3]表面物理与化学国家重点实验室

出  处:《材料导报》

年  份:2008

卷  号:22

期  号:4

起止页码:76-78

语  种:中文

收录情况:BDHX、BDHX2004、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、EI、JST、UPD、ZGKJHX、核心刊

摘  要:综述了热浸镀铝近几年来的研究动态和研究热点。分析了镀铝层结构和生长机制、Si与C对镀层结构和镀层生长的影响、镀层高温抗氧化性能及Si对其影响。阐述了热浸镀铝+等离子体电解氧化新方法的发展和应用。

关 键 词:热浸镀铝 微观结构 生长机制  高温抗氧化 等离子体电解氧化

分 类 号:TQ153.2] TG174.443]

参考文献:

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耦合文献:

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引证文献:

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同被引文献:

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