期刊文章详细信息
双层辉光离子渗镀钽 ( EI收录)
Research on Diffusion and Depositing Tantalum Compound Technique by Xu-TEC Proless
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]太原工业大学表面工程研究所,030024
年 份：1997
卷 号：5
期 号：3
起止页码：105-108
语 种：中文
收录情况：AJ、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI、IC、INSPEC、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、普通刊
摘 要：介绍了一种新型离子渗镀钽的工艺方法。较好解决了渗镀钽时供给活性钽粒子的问题。此方法工艺简单，操作方便，效率高。为充分利用和节约使用昂贵的钽探索了一条实用可行的途径。
关 键 词：渗钽 阴极溅射 辉光放电 金属钽
分 类 号：TG156.8]
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