文献类型：期刊文章

作　　者：林琼斐[1] 夏海平[1] 王金浩[1] 张约品[1] 杨钢锋[2] 张勤远[2]

机构地区：[1]宁波大学光电子功能材料重点实验室,浙江宁波315211 [2]华南理工大学光通信材料研究所特种功能材料教育部重点实验室,广东广州510640

出　　处：《光学学报》

基　　金：浙江省自然科学基金(Y406220);宁波市博士基金(2005A610010,2005610023)资助课题

年　　份：2008

卷　　号：28

期　　号：2

起止页码：305-310

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2004、CAS、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI(收录号：20081511195658)、IC、JST、RCCSE、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：用高温熔融法制备了不同Tm3+摩尔分数掺杂的摩尔分数比为0.3(SiO2)…0.1(Al2O3)…0.1(AlF3)…0.5(PbF2)…x(Tm2O3)(摩尔分数x=0.5%,1.0%,2.0%,3.0%)玻璃。从吸收光谱特性出发,应用Judd-Ofelt理论,计算得到了Tm3+的J-O强度参量(Ω2,Ω4,Ω6)及Tm3+各激发能级的自发辐射跃迁概率、荧光分支比以及辐射寿命等光谱参量。在808nm波长的激光二极管激发下,研究了不同Tm3+掺杂摩尔分数下玻璃在约1.47μm与约1.8μm处的荧光特性,在掺杂摩尔分数约达到2.0%时,在1.8μm处的荧光强度达最大,然后随着掺杂摩尔分数的增大,其荧光强度反而降低。作者从Tm3+的交叉弛豫与摩尔分数猝灭效应解释了这一荧光强度变化的规律,同时,根据McCumber理论计算了Tm3+跃迁3H6→3F4的吸收截面和跃迁3F4→3H6的受激发射截面。

关 键 词：光学材料 掺铥氟氧化物玻璃  光谱性质 交叉弛豫效应  

分 类 号：TQ171]