登录    注册    忘记密码

期刊文章详细信息

低折射率纳米多孔二氧化硅薄膜的疏水性  ( EI收录)  

HYDROPHOBIC BEHAVIOR OF NANOPOROUS SILICA FILMS WITH LOW REFRACTIVE INDEX

  

文献类型:期刊文章

作  者:姚兰芳[1] 鲁凤芹[1] 岳春晓[1] 沈军[2] 吴广明[2]

机构地区:[1]上海理工大学理学院物理系,上海200093 [2]同济大学波耳固体物理研究所,上海200092

出  处:《硅酸盐学报》

基  金:上海市教育委会科研创新基金(08Y297)资助项目。

年  份:2008

卷  号:36

期  号:2

起止页码:139-143

语  种:中文

收录情况:BDHX、BDHX2004、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI(收录号:20081111146696)、INSPEC、JST、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘  要:采用溶胶-凝胶技术,通过HCl控制酸性的酸/酸二步法,以十六烷基三甲基溴化氨为模板剂,正硅酸乙酯为硅源,以及水、盐酸等为原料,制备二氧化硅前驱体溶胶。用甲基三乙氧基硅烷(methyltriethoxysilane,MTES)改性,制各疏水型SiO_2前驱体溶胶。结果表明:采用MTES改性制备的二氧化硅薄膜的疏水性能、光学性能、力学性能等各项性能效果更好;通过简单提拉、迅速蒸发溶剂等方法制备的疏水薄膜的折射率为1.10,且在1.1~1.38之间连续可调,根据测得的折射率,计算的气孔率高达81.8%,介电常数为1.77。其红外光谱表明,所制备的薄膜由于掺入甲基基团而疏水,水滴在薄膜表面上的照片的结果进一步支持这一结论。

关 键 词:溶胶-凝胶 多孔二氧化硅 低折射率  疏水 甲基三乙氧基硅烷

分 类 号:O469]

参考文献:

正在载入数据...

二级参考文献:

正在载入数据...

耦合文献:

正在载入数据...

引证文献:

正在载入数据...

二级引证文献:

正在载入数据...

同被引文献:

正在载入数据...

版权所有©重庆科技学院 重庆维普资讯有限公司 渝B2-20050021-7
 渝公网安备 50019002500408号 违法和不良信息举报中心