期刊文章详细信息
低折射率纳米多孔二氧化硅薄膜的疏水性 ( EI收录)
HYDROPHOBIC BEHAVIOR OF NANOPOROUS SILICA FILMS WITH LOW REFRACTIVE INDEX
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]上海理工大学理学院物理系,上海200093 [2]同济大学波耳固体物理研究所,上海200092
基 金:上海市教育委会科研创新基金(08Y297)资助项目。
年 份:2008
卷 号:36
期 号:2
起止页码:139-143
语 种:中文
收录情况:BDHX、BDHX2004、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI(收录号:20081111146696)、INSPEC、JST、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊
摘 要:采用溶胶-凝胶技术,通过HCl控制酸性的酸/酸二步法,以十六烷基三甲基溴化氨为模板剂,正硅酸乙酯为硅源,以及水、盐酸等为原料,制备二氧化硅前驱体溶胶。用甲基三乙氧基硅烷(methyltriethoxysilane,MTES)改性,制各疏水型SiO_2前驱体溶胶。结果表明:采用MTES改性制备的二氧化硅薄膜的疏水性能、光学性能、力学性能等各项性能效果更好;通过简单提拉、迅速蒸发溶剂等方法制备的疏水薄膜的折射率为1.10,且在1.1~1.38之间连续可调,根据测得的折射率,计算的气孔率高达81.8%,介电常数为1.77。其红外光谱表明,所制备的薄膜由于掺入甲基基团而疏水,水滴在薄膜表面上的照片的结果进一步支持这一结论。
关 键 词:溶胶-凝胶 多孔二氧化硅 低折射率 疏水 甲基三乙氧基硅烷
分 类 号:O469]
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