文献类型：期刊文章

作　　者：王秩伟[1] 龚恒翔[2] 李雪[2] 谭永胜[2]

机构地区：[1]西华师范大学物理与电子信息学院,四川南充637002 [2]绍兴文理学院材料物理与设备研究所,浙江绍兴312000

出　　处：《中国材料科技与设备》

基　　金：绍兴市科技局资助项目（2003141和2004147）

年　　份：2008

卷　　号：5

期　　号：1

起止页码：52-55

语　　种：中文

收录情况：内刊、普通刊

摘　　要：利用脉冲供氧反应磁控溅射制备了TiO2薄膜。分别用XRD和SEM研究了晶体结构和表面形貌。结果表明，当氧浓度高或Toff小，样品为锐钛矿结构，晶粒大小20～30nm；而当氧浓度低或Toff大，样品为金红石结构，晶粒大小10～15nm。应变分析表明，锐钛矿结构只存在压应变，大小0．044～0．211；而金红石存在压应变（大小0．021-0．398）或张应变（大小0．182～0．438）。氧浓度低（或Toff大）样品具有更平整的表面和更均一的晶粒大小。

关 键 词：TIO2 脉冲供氧  反应磁控溅射 应变  形貌

分 类 号：O484.4]