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PDP制作中的曝光技术
Exposure Technology for PDP Manufacturing
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]四川世纪双虹显示器件有限公司北京PDP研发中心,北京100085
年 份：2008
期 号：3
起止页码：44-47
语 种：中文
收录情况：普通刊
摘 要：随着等离子显示器(PDP)制作技术的逐渐成熟,光刻技术在PDP的制作中也越来越重要。本文论述了在PDP制作中影响曝光质量的有关因素,从曝光的主要影响因素进行阐述,并结合实例进行了分析论证。
关 键 词：曝光量 间隙 照度 曝光时间 母版
分 类 号：TN141.5]
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