文献类型：期刊文章

作　　者：姚亮[1] 张永爱[1] 雷晓阳[1] 郭太良[1]

机构地区：[1]福州大学物理与信息工程学院光电显示技术研究所,福建福州350002

出　　处：《液晶与显示》

基　　金：福建省科技重大专项(No.2004HZ01-2)

年　　份：2008

卷　　号：23

期　　号：1

起止页码：16-20

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2004、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD_E2011_2012、EBSCO、IC、INSPEC、JST、RCCSE、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：利用光刻技术和湿法刻蚀技术制备ITO透明电极,借助视频显微仪和台阶仪观测电极形状和表面形貌。比较了不同溶液的刻蚀效果,指出采用盐酸加三氯化铁溶液刻蚀效果最佳,分别讨论了HCl含量和FeCl3含量变化对ITO膜刻蚀速率的影响。最后指出在25±2℃的环境下,刻蚀液HCl、H2O和FeCl3.6H2O的配比满足3L∶1L∶(20～30g)时,ITO膜的刻蚀速率能达到1nm/s,所制备的透明电极边缘整齐无钻蚀,适合于制备平板显示器中的透明精细电极。

关 键 词：平板显示器 ITO透明电极  湿法刻蚀

分 类 号：O484.1]