期刊文章详细信息
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]福州大学物理与信息工程学院光电显示技术研究所,福建福州350002
基 金:福建省科技重大专项(No.2004HZ01-2)
年 份:2008
卷 号:23
期 号:1
起止页码:16-20
语 种:中文
收录情况:AJ、BDHX、BDHX2004、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD_E2011_2012、EBSCO、IC、INSPEC、JST、RCCSE、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、核心刊
摘 要:利用光刻技术和湿法刻蚀技术制备ITO透明电极,借助视频显微仪和台阶仪观测电极形状和表面形貌。比较了不同溶液的刻蚀效果,指出采用盐酸加三氯化铁溶液刻蚀效果最佳,分别讨论了HCl含量和FeCl3含量变化对ITO膜刻蚀速率的影响。最后指出在25±2℃的环境下,刻蚀液HCl、H2O和FeCl3.6H2O的配比满足3L∶1L∶(20~30g)时,ITO膜的刻蚀速率能达到1nm/s,所制备的透明电极边缘整齐无钻蚀,适合于制备平板显示器中的透明精细电极。
关 键 词:平板显示器 ITO透明电极 湿法刻蚀
分 类 号:O484.1]
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