文献类型：期刊文章

作　　者：陈永利[1] 赵达尊[1] 张静方[2] 朱军[2] 王晓利[2]

机构地区：[1]北京理工大学信息科学技术学院颜色科学与工程国家专业实验室,北京100081 [2]中钞特种防伪科技有限公司,北京100070

出　　处：《北京理工大学学报》

基　　金：国家部委预研项目(2006.7.2.3)

年　　份：2008

卷　　号：28

期　　号：2

起止页码：139-142

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2004、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI、IC、INSPEC、JST、MR、RCCSE、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、ZMATH、核心刊

摘　　要：研究可见光波段亚波长防伪光栅的制做.给出了用2θ夹角一次光刻、2θ夹角摆动δ角两次光刻和2θ夹角旋转β角两次光刻等干涉光刻工艺设计和构建可见光波段亚波长光栅微结构的基本原理.优化设计的干板表面曝光量分布函数可用于构建特定面形分布的光栅微结构.制作了可见光波段的1维和2维亚波长光栅微结构,给出了其SEM和AFM实验数据和理论分析图形,检验了微结构的彩色防伪光变效果.实验结果表明:该干涉光刻工艺能够构建出表面光滑、深度较大的复杂光栅微结构,并能展现出一定的彩色光变效果.

关 键 词：亚波长光栅微结构  防伪光变图像  高频光栅构建  干涉光刻

分 类 号：O436.3]