文献类型：期刊文章

作　　者：阳志强[1] 郭忠达[1] 张明颂[1] 刘卫国[1] 杭凌侠[1]

机构地区：[1]西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室,西安710032

出　　处：《西安工业大学学报》

基　　金：陕西省教育厅科研项目(05JS03)

年　　份：2007

卷　　号：27

期　　号：6

起止页码：511-514

语　　种：中文

收录情况：CAS、IC、UPD、ZGKJHX、普通刊

摘　　要：在自制的磁流变抛光实验装置中,通过被加工零件和Bingham凸起相对运动产生的剪切力来实现抛光.在该装置上进行工艺实验,研究了磁流变抛光技术中磁场对表面粗糙度的影响.比较了不同磁场强度下的磁流变抛光情况,以及表面粗糙度和抛光效率的差别,然后,通过采用不同磁场强度组合加工,使初始表面粗糙度(Ra)为400 nm的K9玻璃材料的平面,磁流变抛光30 min,表面粗糙度值达到了0.86 nm,提高了被加工零件的抛光效率和表面质量.

关 键 词：磁流变抛光 磁场强度 表面粗糙度 抛光效率  

分 类 号：TG84]