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期刊文章详细信息

光辅助对MOCVD法制备ZnO薄膜性能的影响  ( EI收录)  

Study on the Properties of ZnO Films Prepared by Photo-assisted MOCVD

  

文献类型:期刊文章

作  者:李香萍[1] 张宝林[1] 董鑫[2] 张源涛[1] 夏晓川[1] 赵磊[1] 赵旺[1] 马艳[1] 杜国同[1]

机构地区:[1]吉林大学电子科学与工程学院集成光电子国家重点实验室,吉林长春130012 [2]大连理工大学物理与光电工程学院三束材料改性国家重点实验室,辽宁大连116023

出  处:《发光学报》

基  金:国家自然科学基金资助项目(60576054,50532080)

年  份:2008

卷  号:29

期  号:1

起止页码:139-143

语  种:中文

收录情况:AJ、BDHX、BDHX2004、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI、INSPEC、JST、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘  要:采用光辅助金属有机化学气相沉积(MOCVD)技术在(0001)蓝宝石衬底上制备了ZnO薄膜。通过X射线衍射、透射光谱和霍尔测试等研究了光照对MOCVD法制备的ZnO薄膜的影响。实验结果表明,引入光辅助后制备的ZnO薄膜,其结晶质量和光学质量均得到改善。分析认为,这主要是由于光辅助有助于提高锌有机源的分解效率,并且高能量的光子可为反应吸附的原子提供足够高的激活能,从而易于其迁移到合适的晶格位置所致。同时我们还发现,有光照和无光照条件下制备的ZnO薄膜均呈n型导电,但有光照条件下制备的ZnO薄膜具有更低的本底载流子浓度,这将为日后通过降低自补偿实现p型掺杂提供一个很好的解决办法。

关 键 词:氧化锌薄膜 光辅助金属有机化学气相沉积  光学特性

分 类 号:O472.3]

参考文献:

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引证文献:

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同被引文献:

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