期刊文章详细信息
Ni-W非晶态合金电沉积方法及结构研究 ( EI收录)
Study on electrodepositing Nickel-tungsten Amorphous Film and Its Structure
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]沈阳师范学院化学系 [2]天津大学应用化学系
年 份：1997
卷 号：26
期 号：3
起止页码：6-9
语 种：中文
收录情况：CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD_E2011_2012、EI、JST、RCCSE、ZGKJHX、普通刊
摘 要：研究了Ni-W非晶态合金的电沉积方法,讨论了电解液组成、温度及pH值对镀层组成及镀层结构的影响,获得了Ni-W合金镀层结晶——非晶区域图。根据镀层的X射线衍射实验结果,研究了镀层结构及非晶态结构的形成机理。
关 键 词：电沉积 镀层 非晶态结构 钨镍合金 电镀
分 类 号：TQ153.2]
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