期刊文章详细信息
微波等离子体化学气相沉积金刚石薄膜的进展 ( EI收录)
Development of Microwave Plasma Chemical Vapour Deposition for Diamond Growth
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]重庆建筑大学基础科学系
年 份：1997
卷 号：26
期 号：3
起止页码：4-5
语 种：中文
收录情况：CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD_E2011_2012、EI、JST、RCCSE、ZGKJHX、普通刊
摘 要：评述了用微波等离子体化学气相沉积法制备高质量人造金刚石薄膜的最新动态和发展趋势。介绍的内容包括:制备仪器、应用领域、沉积条件等。
关 键 词：化学气相沉积法 微波等离子体 金刚石薄膜 镀膜
分 类 号：TG174.442]
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