文献类型：期刊文章

作　　者：方亮[1] 段茜[1] 郭小伟[1] 王景全[1] 张志友[1] 杜惊雷[1]

机构地区：[1]四川大学物理科学与技术学院纳光子技术研究所,成都610064

出　　处：《四川大学学报（自然科学版）》

基　　金：国家自然科学基金(60676024;60376021);微细加工光学技术国家重点实验室基金

年　　份：2007

卷　　号：44

期　　号：6

起止页码：1315-1320

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2004、BIOSISPREVIEWS、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、JST、MR、RCCSE、ZGKJHX、ZMATH、ZR、核心刊

摘　　要：在DMD(Digital Micromirror Device)数字光刻系统中使用微透镜阵列聚焦可在像面获得灰度点阵图形,若曝光的同时基底按预设计的方式同步扫描,则可形成所需求的曝光场分布.这一方法用于衍射微光学元件(DOE)制作,可方便快捷获得高质量的连续面形微结构.文中通过对扫描方式的分析和计算,给出了适于菲涅耳微透镜制作的基片台扫描参数和模拟结果,为用该系统进行DOE实际制作提供了依据.

关 键 词：DMD 数字光刻 分辨率 扫描  DOE

分 类 号：TN305.7]