文献类型：期刊文章

作　　者：王利[1] 程鑫彬[1] 王占山[1] 唐骐[2] 范滨[2]

机构地区：[1]同济大学物理系精密光学工程技术研究所,上海200092 [2]光驰株式会社

出　　处：《红外与激光工程》

基　　金：国家重点基础研究发展计划资助项目(2007CB613206)

年　　份：2007

卷　　号：36

期　　号：6

起止页码：896-898

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2004、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD_E2011_2012、EI、IC、INSPEC、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：阐述了离子源在离子束清洗和离子束辅助薄膜沉积(IAD)中的应用;根据热力学原理及离子碰撞过程分析,研究了离子束辅助沉积过程中的能量传递过程,建立了薄膜折射率与离子辅助沉积过程中各物理量之间的关系模型;探讨了各种工艺条件对离子束辅助沉积薄膜特性的影响,给出了薄膜材料无结晶条件下离子束辅助沉积薄膜工艺选择的相应准则。

关 键 词：离子束清洗  离子束辅助沉积 离子能量传递  

分 类 号：TB43]