期刊文章详细信息
ITO薄膜的半导化机理、用途和制备方法 ( EI收录)
Semiconducting Mechanism, Aplications and Fabrication of ITO Films
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]中南工业大学粉末冶金研究所,长沙410083
年 份：1997
卷 号：11
期 号：4
起止页码：11-14
语 种：中文
收录情况：BDHX、BDHX1996、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、EI、IC、JST、RCCSE、SCOPUS、UPD、ZGKJHX、核心刊
摘 要：综述了ITO薄膜的半导化机理、应用和制备工艺。ITO薄膜的半导化机制是高价Sn^(4+)替代部分In^(3+)和氧缺位。ITO薄膜主要用于光电器件中,例如用于液晶显示。综述了磁控溅射、CVD、喷雾热分解和溶胶-凝胶四种制膜工艺。
关 键 词：ITO薄膜 半导体 制备 铟锡氧化物 半导体
分 类 号：TN304.21] TN304.055
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