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化学机械抛光中抛光垫修整的作用及规律研究
Investigation of functions and effects of polishing pad conditioning in chemical mechanical polishing
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]广东工业大学机电工程学院 [2]76321部队
基 金:广东省科技攻关项目(No.2002C1020201);广东省自然科学基金项目(No.020143);留学回国人员科研启动基金项目(教外司[2003]14号);广东省教育厅人才基金项目(粤教科[2002]44号);广东工业大学青年基金(042026)
年 份:2007
卷 号:27
期 号:5
起止页码:58-63
语 种:中文
收录情况:AJ、BDHX、BDHX2004、CAS、IC、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊
摘 要:抛光垫修整是化学机械抛光的重要过程之一。修整后抛光垫的性能主要由修整器的性能和相关的工艺参数决定。本文介绍常用金刚石修整器的颗粒性能、胎体材料及相关工艺参数,总结金刚石修整器在不同条件下对修整性能的影响规律,发现:金刚石颗粒的类型影响修整效率,RAS越大,修整效率越高;颗粒尺寸的增大有利于提高修整效率;粘结力的增大,可以提高修整效率和使用寿命;颗粒的均匀排列有助于抛光垫表面沟槽的形成;使用陶瓷作为胎体材料,可以提高使用寿命;修整压力及转速的增大,可以提高修整效率;修整温度会对抛光垫的沟槽、微孔及硬度产生影响,温度的升高,可以改善修整质量;修整密度越大,抛光垫的磨损率越高。最后对金刚石修整器的发展趋势做出展望。
关 键 词:化学机械抛光 抛光垫 修整 金刚石颗粒
分 类 号:TQ164]
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