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期刊文章详细信息

ULSI制备中多层布线导体铜的抛光液与抛光技术的研究    

CMP Study of Multilayer Wiring Conductor Copper in ULSI Manufacturing

  

文献类型:期刊文章

作  者:刘玉岭[1] 李嘉席[1] 檀柏梅[1] 梁存龙[2]

机构地区:[1]河北工业大学,天津300130 [2]河北冀雅电子有限公司,河北石家庄050071

出  处:《电子工业专用设备》

年  份:2007

卷  号:36

期  号:10

起止页码:17-21

语  种:中文

收录情况:普通刊

摘  要:提出了在碱性浆料中ULSI多层布线导体铜化学机械抛光的模型,对铜CMP所需达到的平面化、选择性、抛光速率控制、浆料的稳定及洁净度、抛光液成分的优化选择进行了实验研究。

关 键 词:化学机械抛光  多层布线 甚大规模集成电路 铜浆料(抛光液)  

分 类 号:TN405.97]

参考文献:

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二级参考文献:

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耦合文献:

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引证文献:

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二级引证文献:

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同被引文献:

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