文献类型：期刊文章

作　　者：薛俊明[1,2] 黄宇[1,2] 熊强[3] 马铁华[4] 孙建[1,2] 赵颖[1,2] 耿新华[1,2]

机构地区：[1]南开大学光电子薄膜器件与技术研究所&天津市重点实验室 [2]光电信息技术科学教育部重点实验室,天津300071 [3]河北省信息产业厅唐山无线电管理分局,唐山063000 [4]仪器科学与动态测试教育部重点实验室,中北大学电子工程系太原030051

出　　处：《太阳能学报》

基　　金：天津市重点科技攻关项目(06YFGZGX02100);国家"973"重点基础研究项目(2006CB202602;2006CB202603);天津市自然科学重点基金项目(06YFJZJC01700)

年　　份：2007

卷　　号：28

期　　号：7

起止页码：701-705

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2004、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、EI(收录号：20074210874988)、IC、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：利用中频脉冲磁控溅射方法,采用Al掺杂(质量百分比2%)的Zn(纯度99.99%)金属材料为靶材制备平面透明导电ZnO:Al(ZAO)薄膜。利用湿法腐蚀方法,将平面ZAO薄膜在0.5%的稀盐酸中浸泡一定时间后,形成表面凹凸起伏的绒面结构。研究了平面ZAO薄膜的结构特性以及衬底温度、溅射功率和腐蚀时间对绒面ZAO薄膜表面形貌的影响,并对腐蚀前后薄膜的电阻变化进行了分析。结果表明:高温、低功率条件下制备的绒面ZAO薄膜表面形貌较好,在硅薄膜太阳电池中具有潜在的应用前景。

关 键 词：中频脉冲磁控溅射  ZnO:Al(ZAO)薄膜  绒面结构  

分 类 号：TM615]