文献类型：期刊文章

作　　者：刘雪华[1] 唐电[2]

机构地区：[1]福建工程学院材料科学与工程系,福建福州350014 [2]福州大学材料研究所,福建福州350000

出　　处：《材料热处理学报》

基　　金：国家自然科学基金(50472002);福建省重大科研专项(2005HZ01)

年　　份：2007

卷　　号：28

期　　号：B08

起止页码：198-201

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2004、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI(收录号：20074310887996)、IC、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：采用Pechini法,通过涂覆、烧结和退火,制备成系列含硅的RuO_2-SiO_2/Ti样品。二元涂层的摩尔成分为X%RuO_2-Y%SiO_2(以下简写为Ru_xSi_yO_2)。采用SEM和XRD方法分析了该阳极涂层材料的组织结构特征。结果表明所制备的涂层的相结构主要由金红石相的RuO_2所组成,高温处理出现金红石相TiO_2,加入的硅以非晶态SiO_2的形式存在。经450℃处理的含硅样品的平均晶粒尺寸均小于10nm,明显低于不含硅的样品。同时具有很强的尺寸稳定性,即使经800℃退火处理后,涂层的平均晶粒尺寸仍在45nm以下。这表明掺杂适量的非晶态SiO_2组元,可以明显细化晶粒,稳定相结构,同时可粘连分散的活性组元颗粒,起到"支架"的作用。

关 键 词：Pechim法  RuO2-SiO2/Ti涂层  显微结构 相结构

分 类 号：TG174.453]