期刊文章详细信息
纳米时代的可制造性设计
Design for Manufacturability in Nanometer Era
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]华南理工大学微电子研究所,广州510641
年 份：2007
卷 号：37
期 号：4
起止页码：532-537
语 种：中文
收录情况：AJ、BDHX、BDHX2004、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD_E2011_2012、IC、INSPEC、JST、ZGKJHX、核心刊
摘 要：集成电路产业在遵循摩尔定律发展进入纳米时代后,制造工艺效应对芯片电学性能的影响越来越大,使得在设计的各个阶段都必须考虑可制造性因素。介绍了可制造性设计中的分辨率增强技术、工艺可变性,以及建立可制造性设计机制中的多方合作问题。
关 键 词：集成电路 可制造性设计 分辨率增强 工艺可变性 光学邻近校正 化学机械抛光
分 类 号：TN405]
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