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呋喃与双卤分子间卤键的电子密度拓扑研究 ( SCI收录)
Topological Studies of Electron Density on the Halogen-bond between Furan and Dihalogen Molecules
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]河北师范大学化学与材料科学学院计算量子化学研究所 [2]河北农业大学理学院保定071001
基 金:国家自然科学基金(No.20573032);河北省自然科学基金(No.B2006000137)资助项目.
年 份:2007
卷 号:65
期 号:15
起止页码:1469-1475
语 种:中文
收录情况:AJ、BDHX、BDHX2004、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、IC、JST、RCCSE、RSC、SCI(收录号:WOS:000248988100012)、SCI-EXPANDED(收录号:WOS:000248988100012)、SCIE、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、核心刊
摘 要:用DFT和MP2(full)方法研究了呋喃-XY(XY=ClF,BrF,BrCl)体系分子间的相互作用,讨论了两种卤键类型Y—X…O和Y—X…π的作用.研究表明:Y—X…π的相互作用比Y—X…O的作用强,计算得到的分子间相互作用能按照呋喃-BrF>呋喃-ClF>呋喃-BrCl的顺序依次降低.形成卤键后,两种类型卤键复合物中的电子受体X—Y键伸长,其振动频率发生红移.利用电子密度拓扑方法对卤键的电子密度拓扑性质进行了分析.
关 键 词:呋喃 双卤分子 卤键 电子密度拓扑分析
分 类 号:O641.1]
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