期刊文章详细信息
偏压对多弧离子镀TiN膜层的影响 ( EI收录)
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]苏州大学薄膜材料实验室 [2]苏州大学测试中心
年 份：1997
卷 号：26
期 号：1
起止页码：8-10
语 种：中文
收录情况：CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD_E2011_2012、EI、JST、RCCSE、ZGKJHX、普通刊
摘 要：主要运用多弧离子镀技术研究了偏压对不锈钢基片上镀制的TiN膜层的影响,运用扫描电子显微镜(SEM),X-射线衍射仪(XRD)和附着力测定仪研究了膜表面的钛滴、针孔、膜的取向和临界载荷等性能。结果表明:低偏压下膜表面的针孔密度较小,高偏压下钛滴趋于细化。划痕试验表明:在150～200V偏压下膜层的临界载荷最佳。
关 键 词：多弧离子镀 喷镀 氮化钛 离子镀 镀膜 偏压
分 类 号：TG174.442]
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