文献类型：期刊文章

作　　者：陈婷[1] 郭平生[1] 王莉莉[1] 冯涛[1] 陈弈卫[1] 张哲娟[1] 林丽锋[1] 阙文修[1] 孙卓[1]

机构地区：[1]华东师范大学纳光电集成与先进装备教育部工程研究中心,上海200062

出　　处：《液晶与显示》

基　　金：Supported by National Nature Science Foundation of China(No.60477003);Science and Technology Committee of Shanghai(No.0552nm006,No.0652nm033);Project of Key Laboratory of Advanced Display and System Applications(Shanghai University) Ministry of Education,China(No.P200503);Shanghai Pujiang Program(No.05PJ14320);Key Project of Photonic Technology(No.06DZ11404);Development Program of High Technology and Innovation of Shanghai Economic Committee Key Project of Expro Panel(No.05dz05803)

年　　份：2007

卷　　号：22

期　　号：3

起止页码：283-287

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2004、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD_E2011_2012、EBSCO、IC、INSPEC、JST、RCCSE、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：采用磁控共溅射法在Si片表面镀NiTi膜作为碳纳米管生长的催化剂,制备出表面形貌特殊的碳纳米管薄膜,如"丘状"和"星状"的表面微结构。通过扫描电子显微镜对碳纳米管薄膜的形貌进行表征,采用二极管形式测试了碳纳米管薄膜的场发射性能。实验结果表明,这两种碳纳米管薄膜都具有优异的场发射性能,10μA/cm^2时的开启电场分别仅为1.02 V/μm和1.15 V/μm,在外加电场为2.4 V/μm时的电流密度分别达到4.32 mA/cm^2和6.88 mA/cm^2。通过场发射FN的曲线计算得到的场发射增强因子分别为10113和6840。这两种碳纳米管薄膜优异的场发射性能与其表面的微结构有关。表面的粗糙结构增强了部分碳纳米管的局域电场,易于发射电子。

关 键 词：场发射显示 碳纳米管 场发射 表面形貌

分 类 号：TN873.95]