期刊文章详细信息
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]首钢日电电子有限公司,北京100044
年 份:2007
卷 号:27
期 号:6
起止页码:84-86
语 种:中文
收录情况:AJ、BDHX、BDHX2004、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、JST、ZGKJHX、核心刊
摘 要:通过对集成电路工厂废水种类、成分和原有废水处理工艺及原理的分析,以及对废水处理系统投入运行以来在工艺、设备、控制等方面存在诸多问题的研究,经过比较和分析,采用日本富士化水公司开发的用于处理半导体工业废水的专利技术——Heldy-F法,并对原有废水处理工艺进行了技术改造,改造后系统运行稳定,出水水质达到国家标准,运行成本降低,取得了良好的效果。
关 键 词:集成电路 含氟废水 电镀废水
分 类 号:X703.1]
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