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期刊文章详细信息

高压VDMOS电容的研究    

Study on the Capacitance of High Breakdown Voltage VDMOS

  

文献类型:期刊文章

作  者:刘侠[1] 孙伟锋[2] 王钦[2] 杨东林[2]

机构地区:[1]东南大学集成电路学院 [2]东南大学国家ASIC工程技术研究中心

出  处:《电子器件》

年  份:2007

卷  号:30

期  号:3

起止页码:783-786

语  种:中文

收录情况:CAS、INSPEC、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、普通刊

摘  要:本文主要研究了VDMOS电容的组成,详细分析了Ciss、Coss和Crss这3个VDMOS电容参数的定义和各自对应的特性,并从模拟上着重分析了沟道长度和栅氧厚度对电容的影响.文中提出一种反馈电容较低的VDMOS新单元结构,在相同的尺寸条件下,新结构单元Qg*Rdson的优值较之传统型设计显著下降.

关 键 词:VDMOS 电容 导通电阻

分 类 号:TM53]

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同被引文献:

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