文献类型：期刊文章

作　　者：姜立忠[1] 战佳宇[1] 武德珍[1] 金日光[1]

机构地区：[1]北京化工大学新型高分子材料制备与加工北京市重点实验室,北京100029

出　　处：《北京化工大学学报（自然科学版）》

基　　金：国家自然科学基金(50573007);高等学校博士学科点专项基金(200600100006)

年　　份：2007

卷　　号：34

期　　号：3

起止页码：287-289

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2004、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD_E2011_2012、EI(收录号：20072410653080)、IC、JST、PROQUEST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：采用原位一步法制备了表面甲基丙烯酰氧基三甲氧基硅烷(MPS)改性的单分散纳米二氧化硅(SiO2)粒子。该过程将纳米SiO2的缩合形成过程与功能化改性同步进行,并用红外光谱(FTIR)、X射线光电子能谱(XPS)、透射电子显微镜(TEM)、热失重分析(TGA)等测试方法研究了粒子的表面化学结构、形态和分散性以及粒子中MPS的含量。结果表明,原位一步法制备的MPS改性纳米SiO2粒子粒径约75 nm,基本上呈单分散状态,且含有大量的MPS功能性基团,其表面密度为3.45μmol/m2。

关 键 词：原位一步法  甲基丙烯酰氧基三甲氧基硅烷(MPS)  单分散 纳米二氧化硅

分 类 号：TQ127.2]