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包埋法制备碳/碳复合材料碳化硅涂层缺陷的形成机制及控制 ( EI收录)
MECHANISM OF DEFECT FORMATION AND CONTROL OF SILICON CARBIDE COATING FOR CARBON/CARBON COMPOSITES MADE BY THE PACK CEMENTATION METHOD
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]西北工业大学碳/碳复合材料研究所,西安710072
基 金:国家杰出青年基金(50225210);国家"973"(2006CB600908)资助项目
年 份:2007
卷 号:35
期 号:6
起止页码:721-724
语 种:中文
收录情况:BDHX、BDHX2004、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI(收录号:20072710692321)、IC、INSPEC、JST、RCCSE、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊
摘 要:用包埋法在碳/碳(C/C)复合材料表面制备了碳化硅(SiC)涂层及改性涂层。用扫描电镜观察涂层的微观形貌。从理论上探讨了涂层缺陷的形成机制,分析了改性剂对SiC涂层形貌、晶粒尺寸的影响。结果表明:添加改性剂后,涂层晶粒变小,涂层致密,表面未出现裂纹,断面孔洞的数量减少,尺寸减小。在1773K的抗氧化性比未添加改性剂涂层的显著提高。
关 键 词:碳化硅涂层 裂纹 包埋法
分 类 号:TB332[材料类]
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