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期刊文章详细信息

溅射功率对TiO_2薄膜结构与特性的影响  ( EI收录)  

Influence of Sputtering Power on Microstructures of TiO_2 Films

  

文献类型:期刊文章

作  者:刘贵昂[1] 杨贵进[1] 郑妃盛[1]

机构地区:[1]湛江师范学院物理系,广东湛江524048

出  处:《真空科学与技术学报》

基  金:广东省湛江市科技攻关计划;湛江师范学院自然科学研究基金资助项目

年  份:2007

卷  号:27

期  号:3

起止页码:254-258

语  种:中文

收录情况:BDHX、BDHX2004、CAS、CSCD、CSCD_E2011_2012、EI(收录号:20072510663418)、JST、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘  要:采用射频磁控溅射法,在室温和不同功率条件下,在soda-lime玻璃衬底上成功制备出TiO2薄膜。运用X射线衍射(XRD)仪、能谱仪、拉曼(Raman)光谱仪、PL光谱、紫外—可见(UV-VIS)分光光度计等对样品进行了表征分析。分析结果表明:当溅射功率小于100 W时,在soda-lime玻璃衬底上制备的TiO2薄膜为无定形结构。当溅射功率大于等于150 W时,所得TiO2薄膜中出现锐钛矿结构。在本实验中,随溅射功率的增加,TiO2薄膜的结晶越好,晶粒的粒径不断增大且沿(101)取向生长。当在氧气气氛中500℃退火2 h后,制备的TiO2薄膜中锐钛矿相晶粒尺寸增加了17%。在本实验条件下,随着溅射功率的增加,薄膜厚度明显增加,薄膜厚度与溅射功率基本成线性关系。通过光催化降解实验得出,所得到的纳米TiO2薄膜对亚甲基兰溶液具有较强的降解能力。

关 键 词:TIO2薄膜 溅射功率 退火 光催化 亚甲基兰

分 类 号:TB43] O484.1]

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同被引文献:

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