文献类型：期刊文章

作　　者：刘文[1] 王质武[1] 杨清斗[1] 刘毅[2] 卫静婷[1] 唐伟群[1]

机构地区：[1]深圳大学光电子学研究所,广东省光电子器件与系统重点实验室,光电子器件与系统教育部重点实验室 [2]深圳大学师范学院,深圳518060

出　　处：《硅酸盐学报》

基　　金：留学回国人员科研启动基金(教外司留2001-498)资助项目

年　　份：2007

卷　　号：35

期　　号：5

起止页码：616-618

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2004、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI(收录号：20072510662734)、IC、INSPEC、JST、RCCSE、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：采用直流磁控溅射法在石英衬底上制备了氮化铝(AlN)薄膜。用 X 射线衍射仪分析了薄膜结构。利用椭圆偏振仪和紫外/可见/近红外分光光度计对 AlN 薄膜进行了相关光学性能的研究,获得到了薄膜的折射率随波长的色散关系曲线。在波长为 250～1 000 nm,薄膜的折射率为 1.87～2.20。结合透射光谱图,分析了 AlN 薄膜的光学性质。结果表明:利用磁控溅射方法可以获得(100)择优取向 AlN 薄膜;AlN 薄膜在 200～300 nm 远紫外光范围内具有强烈的吸收,在 300～1000 nm 波长范围内具有良好的透过率。透射光谱图计算得到的薄膜厚度(427 nm)与椭圆偏振拟合得到的薄膜厚度(425 nm)一致。

关 键 词：氮化铝 石英衬底  折射率 吸收系数  透射光谱

分 类 号：O484.4]