期刊文章详细信息
LCD相关原材料产业发展态势(下)
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]北京清华液晶技术工程研究中心,北京100084
年 份：2007
期 号：4
起止页码：28-32
语 种：中文
收录情况：普通刊
摘 要：4ITO玻璃 通常在基片玻璃上用电子束蒸发或在氧气气氛中溅射得到ITO膜，膜厚在100～300nm之间，由所需的电阻所确定。在溅射时，采用ITO合金靶，在SnO2-In2O3合金中，SnO2的浓度大约为5％-10％时，有利于得到最佳的ITO膜性能。在沉积过程中，氧气在氩气气氛中的浓度大约为1％，在这种条件下，退火后得到的比电阻率大约为2．0×10^-4Ω．cm^-1，膜厚在100nm时，方框电阻大约为200Ω／□。
关 键 词：产业发展 原材料 ITO玻璃 D相 LC 氧气气氛 电子束蒸发 电阻率
分 类 号：TQ171.736]
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