文献类型：期刊文章

作　　者：柴明霞[1,2] 胡建东[1] 冯晓平[1] 周雪珍[1] 罗军明[1] 李永绣[1]

机构地区：[1]南昌大学稀土与微纳功能材料研究中心 [2]青海大学应用化学系,西宁810016

出　　处：《无机化学学报》

基　　金：国家自然科学基金(No.59764001;201610002);江西省自然科学基金(No.0220007;Q97001)资助项目

年　　份：2007

卷　　号：23

期　　号：4

起止页码：623-629

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2004、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、IC、JST、RCCSE、RSC、SCI(收录号：WOS:000246167700010)、SCI-EXPANDED(收录号：WOS:000246167700010)、SCIE、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：采用正硅酸乙酯溶胶-凝胶法制备纳米SiO2,并与氯化铈溶液混合,用氨水沉淀法制备了SiO2-CeO2复合氧化物。利用XRD、SEM等手段对其物相类型、外观形貌、颗粒大小、表面电位等物理性能进行了表征,测定了它们对3种光学玻璃的抛光速率。结果表明:合成复合氧化物具有立方萤石型结构,由Sherrer方程计算的晶粒DXRD(200)小于100nm甚至10nm。随着SiO2复配量的增加和煅烧温度的降低,晶粒度减小,比表面增大;激光粒度分析仪测定的中位粒径D50在2￣3μm之间,且随SiO2复配量的增加呈增大趋势,但随煅烧温度的变化在800℃时出现极小值,而此时的ζ电位的负值最大,对3种玻璃的抛光速率也最大。证明抛光速率与表面电位及相应的悬浮性、颗粒大小有直接关系。随着SiO2复配量的增加,复合氧化物的ζ电位负值及对3种玻璃的抛光速率均增大。因此,在CeO2中复配SiO2是提高抛光速率的有效方法,此时,最佳的煅烧温度为800℃。

关 键 词：二氧化硅-氧化铈复合氧化物  制备  抛光

分 类 号：O614.33] TF123.72[化学类]