文献类型：期刊文章

作　　者：庄大明[1] 刘家浚[1] 朱宝亮[1]

机构地区：[1]清华大学摩擦学研究所

出　　处：《摩擦学学报》

基　　金：中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑开放研究实验室基金

年　　份：1996

卷　　号：16

期　　号：4

起止页码：312-321

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX1992、CAS、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI(收录号：1997243625073)、JST、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：用Ｘ射线衍射仪测定了在５２１００钢基体上离子束增强沉积ＴｉＮ膜、等离子体化学气相沉积ＴｉＮ膜和离子镀ＴｉＮ膜的应力状态，分析了不同工艺方法制取的ＴｉＮ薄膜的应力形成的影响因素，比较了３种薄膜在不同载荷和摩擦速度条件下的摩擦学性能，分析了膜－基界面两侧应力状态对膜－基结合力、薄膜的耐磨性能和磨损机理的影响．结果表明：３种ＴｉＮ／５２１００钢试样在薄膜内的应力均为压应力，但在界面附近基体一侧的应力状态是随着工艺方法的不同而不同，３种膜的硬度和膜－基结合力都依次下降，而其内应力与膜－基应力的差值则是依次增大，分别为２６９．０ＭＰａ，６６０．５ＭＰａ和１０６３．３ＭＰａ，因而前者显示出最高的膜－基结合力和最佳的摩擦学性能；

关 键 词：TIN膜 物理气相沉积 摩擦磨损  应力状态

分 类 号：TN43]