文献类型：期刊文章

作　　者：李霞章[1] 陈杨[2] 陈志刚[2] 陈建清[3] 倪超英[4]

机构地区：[1]江苏大学材料工程学院,江苏镇江212013 [2]江苏工业学院材料系,江苏常州213016 [3]河海大学材料系,江苏南京210098 [4]特拉华大学材料学院,美国纽瓦克19716

出　　处：《摩擦学学报》

基　　金：江苏省自然科学基金资助项目(BK2002010);江苏省高技术项目资助(BG2004022)

年　　份：2007

卷　　号：27

期　　号：1

起止页码：1-5

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2004、CAS、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI(收录号：20071510544803)、IC、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：以硝酸铈和六亚甲基四胺为原料制备出不同粒径的纳米CeO2粉体颗粒,将纳米CeO2粉体配制成抛光液并用于砷化镓晶片的化学机械抛光.结果表明,不同尺寸的纳米磨料具有不同的抛光效果,采用粒度8 nm的CeO2磨料抛光后微观表面粗糙度最低(0.740 nm),采用粒度小于或大于8 nm的CeO2磨料抛光后其表面粗糙度值均较高.通过简化的固-固接触模型分析,认为当粒度过小时,磨料难以穿透软质层,表现为化学抛光为主,表面凹坑较多,表面粗糙度较高;当粒度大于一定值时,随着磨料粒度增加,嵌入基体部分的深度加大,使得粗糙度出现上升趋势.提出当磨料嵌入晶片表面的最大深度等于或接近于软质层厚度时,在理论上应具有最佳的抛光效果.

关 键 词：纳米CEO2 GAAS 化学机械抛光 磨料粒径  

分 类 号：TG356.28] TH117.3]