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期刊文章详细信息

酸性氯化铜蚀刻液原理及影响因素分析    

Brief principles to acid chlorination copper etching solution and factors analysis

  

文献类型:期刊文章

作  者:陈双扣[1] 郭莉萍[1] 朱建芳[1] 李丹[1] 王月[1]

机构地区:[1]重庆科技学院化学系,中国重庆400050

出  处:《科技信息》

年  份:2006

期  号:10S

起止页码:8-8

语  种:中文

收录情况:普通刊

摘  要:本文介绍了印制电路板制造过程中的酸性氯化铜蚀刻液。并对其蚀刻原理和影响蚀刻速率的因素进行了阐述。

关 键 词:印制电路板 酸性氯化铜  蚀刻

分 类 号:TQ171.687]

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同被引文献:

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