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磁控溅射真空制膜技术
Films materials prepared by magnetron sputtering
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]贵州大学计算机科学与技术学院电子科学系,贵州贵阳550025
年 份：2007
卷 号：24
期 号：1
起止页码：68-70
语 种：中文
收录情况：ZGKJHX、普通刊
摘 要：利用JGP-560CⅧ型带空气锁的超高真空多功能溅射系统在Si(100)和玻璃基底上沉积了介质薄膜、半导体薄膜、金属薄膜和磁性薄膜,通过实验研究得到各种薄膜较好的镀膜条件;并采用可变入射角椭圆偏振光谱仪对其中一些薄膜的光学性质进行了分析,研究了制备条件对薄膜在可见光范围内光学性质的影响;我们还研究了直流溅射、射频溅射、反应溅射的特点和它们的适用范围。
关 键 词：磁控溅射 薄膜 椭偏仪
分 类 号：TN304]
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