文献类型：期刊文章

作　　者：许静[1] 唐一科[2] 徐艳[2] 范瑛[3]

机构地区：[1]重庆科技学院化学与生物工程学院,重庆400050 [2]重庆大学机械工程学院,重庆400044 [3]中国工程物理研究院结构力学研究所,绵阳621000

出　　处：《材料导报》

基　　金：国家自然科学基金委员会基金;中国工程物理研究院NSAF联合基金(10376045)

年　　份：2006

卷　　号：20

期　　号：F11

起止页码：336-338

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2004、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、EI、IC、JST、RCCSE、SCOPUS、UPD、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：用溶胶-凝胶法和直流反应磁控溅射法制备了表面均匀致密的三氧化钨薄膜，并用双光束紫外可见分光光度计和X衍射分别对薄膜的透光性、结构形态进行了测定；描述了退火温度对薄膜透光性和结构形态的影响，结果表明在高温（〉300℃）退火处理后薄膜的透光率下降，且退火温度越高透光率越低；在350℃以下退火处理后得到薄膜样品为非晶态，在350～400℃范围内退火处理，样品由非晶态向晶态转变。

关 键 词：溶胶-凝胶法 直流磁控溅射法 透光性 结构形态  

分 类 号：TQ325.14]