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期刊文章详细信息

Materials Studio软件涉及力场中氢键的研究    

Investigation of H-bonding for the related force fields in materials studio software

  

文献类型:期刊文章

作  者:殷开梁[1] 邹定辉[1] 杨波[1] 张雪红[1] 夏庆[1] 徐端钧[2]

机构地区:[1]江苏工业学院化工系 [2]浙江大学化学系,浙江杭州310027

出  处:《计算机与应用化学》

基  金:国家自然科学基金(20406007)江苏省高校自然科学基金(04KJB150028)

年  份:2006

卷  号:23

期  号:12

起止页码:1335-1340

语  种:中文

收录情况:BDHX、BDHX2004、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、JST、ZGKJHX、核心刊

摘  要:利用Materials Studio(MS)材料科学软件,分别采用pcff、COMPASS及cvff力场.计算两个乙醇分子间的氢键作用,考察了氢原子和受体氧原子间距离、成键角度等因素对各种非键作用能的影响。研究结果表明:(1)当将氢链作用看成是范德华作用和静电作用的综合结果时,对氢键的反映cvff最差,COMPASS最好;(2)只要采用合适的范德华作用势函数、力常数以及指定恰当的原子部分电荷,是可以用一般的非键作用来反映氢键的。本文为MS用户初步解释了MS中的力场是如何处理氢键的重要疑问。

关 键 词:Mmerials  STUDIO软件 力场  氢键

分 类 号:O641.13]

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同被引文献:

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