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期刊文章详细信息

p型ZnO薄膜研究进展  ( EI收录)  

Recent progress on p-type ZnO films

  

文献类型:期刊文章

作  者:盛苏[1] 方国家[1] 袁龙炎[1]

机构地区:[1]武汉大学物理科学与技术学院声光材料与器件教育部重点实验室

出  处:《材料科学与工艺》

基  金:国家自然科学基金资助项目(60244003);湖北省新世纪高层次人才工程资助项目

年  份:2006

卷  号:14

期  号:6

起止页码:637-641

语  种:中文

收录情况:AJ、BDHX、BDHX2004、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI、IC、INSPEC、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘  要:ZnO薄膜是一种应用广泛的半导体材料.近几年来,随着对ZnO的光电性质及其在光电器件方面应用的开发研究,ZnO薄膜成为研究热点之一.制备掺杂的p型ZnO是形成同质p-n结以及实现其实际应用的重要途径.近来已在p型ZnO及其同质结发光二极管(LED s)研究方面取得了较大的进展.目前报道的p型ZnO薄膜的电阻率已降至10-3Ω.cm量级.得到了具有较好非线性伏安特性的ZnO同质p-n结和紫外发光LED.本文就其最新进展进行了综述.

关 键 词:ZNO薄膜 P型掺杂 同质p—n结  

分 类 号:TN304] O475]

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同被引文献:

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