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我国专利质量现状、成因及对策探讨
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]湖北工业大学商贸学院,武汉430079 [2]华中科技大学管理学院,武汉430074
年 份：2006
卷 号：19
期 号：6
起止页码：37-40
语 种：中文
收录情况：JST、RWSKHX、普通刊
摘 要：随着建设创新型国家战略的实施和对专利工作的重视,我国专利数量逐年攀升,但专利质量不容乐观。文章对我国专利质量现状进行了分析,剖析了专利质量低的诸多危害,在对我国专利质量低的原因进行探讨的基础上,提出了提高专利质量的对策。
关 键 词：专利质量 现状 危害 对策
分 类 号：F204]
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