文献类型：期刊文章

作　　者：沈志刚[1] 俞晓正[1] 徐政[2] 裴喜华[3]

机构地区：[1]北京航空航天大学航空科学与工程学院,北京100083 [2]北京有色金属研究总院,北京100088 [3]国家纳米技术产业化基地,天津300457

出　　处：《北京航空航天大学学报》

基　　金：航空基金资助项目(05H51046);北京市教育委员会共建项目建设计划资助项目(SYS100060413)

年　　份：2006

卷　　号：32

期　　号：10

起止页码：1193-1198

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2004、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI(收录号：20070110339175)、IC、INSPEC、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：采用磁控溅射方法,成功地在微颗粒表面沉积了金属铜膜和金属镍膜.利用光学显微镜(OM)、场发射扫描电子显微镜(FESEM)、能谱仪(EDS)、多功能扫描探针显微镜(SPM)、电感耦合等离子体发射光谱仪(ICP-AES)和光电子能谱仪(XPS)等测试仪器对其表面形貌、膜厚和组份进行了表征.重点讨论了不同的沉积条件对薄膜结晶的影响,并用X射线衍射仪(XRD)对其进行了表征.结果表明,溅射镀膜时,通过控制微颗粒的运动方式,可以在微颗粒表面镀上均匀性好、附着力强和致密性好的金属膜.溅射时间越长或溅射功率越大或装载量越少,都有利于薄膜结晶.

关 键 词：磁控溅射 金属膜 微颗粒 空心微珠 碳化硅

分 类 号：TB79] TB333