文献类型：期刊文章

作　　者：范平[1,2] 邵建达[2] 易葵[2] 齐红基[2] 范正修[2]

机构地区：[1]深圳大学理学院应用物理系,广东深圳518060 [2]中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜技术研发中心,上海201800

出　　处：《光子学报》

基　　金：国家863计划(2004AA847060);深圳市科技计划(200319)资助

年　　份：2006

卷　　号：35

期　　号：10

起止页码：1542-1546

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2004、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI(收录号：20070110346050)、IC、INSPEC、JST、RCCSE、RSC、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：采用离子束溅射在K9玻璃基底上沉积了不同厚度的Cu膜,利用Lambda-900分光光度计,测量了波长为310nm到1300nm范围内Cu膜的反射率和透射率.选定波长为310、350、400、430、550、632、800、1200nm时对薄膜的反射率、透射率和吸收率随膜厚变化的关系进行研究.同时,对Cu膜的光学常量也进行了讨论.结果显示,Cu膜的光学特性都有明显的尺寸效应.将波长为550nm时的反射率和透射率随Cu膜厚度变化关系的交点对应厚度作为特征厚度,该厚度可认为是金属Cu膜生长从不连续膜进入连续膜的最小连续膜厚.根据这一特征判据,离子束溅射沉积Cu膜样品的最小连续膜厚为33nm.利用原子力显微镜观测了膜厚在特征厚度附近时Cu膜的表面形貌.

关 键 词：薄膜物理学 光学特性 尺寸效应 CU膜 最小连续膜厚  

分 类 号：O484.4]