文献类型：期刊文章

作　　者：刘天伟[1,2] 鲜晓斌[1] 武胜[1] 董闯[3]

机构地区：[1]大连理工大学三束国家重点实验室 [2]表面物理与化学国家重点实验室,四川绵阳621907 [3]表面物理与化学国家重点实验室

出　　处：《稀有金属材料与工程》

基　　金：中国工程物理研究院NSAF基金(10176005)资助

年　　份：2006

卷　　号：35

期　　号：9

起止页码：1437-1440

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2004、CAS、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI(收录号：20064710258807)、IC、INSPEC、JST、RCCSE、SCI(收录号：WOS:000241085300022)、SCI-EXPANDED(收录号：WOS:000241085300022)、SCIE、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：不同偏压下利用多弧离子镀技术在U基体上制备了TiN薄膜。利用X射线衍射(XRD)分析了薄膜的微观组织结构,用扫描电镜(SEM)观察其表面形貌。结果表明:所得薄膜为单一TiN结构,薄膜表面平整、致密,但局部仍存在大颗粒。摩擦磨损实验测定了薄膜的磨损性能。随偏压的上升,摩擦系数由0.421变为0.401。同时利用X射线光电子能谱分析仪(XPS)对湿热腐蚀20d后的样品进行了分析,并利用电化学极化实验在0.5μg/gCl-溶液中测试了基体及薄膜耐蚀性能。结果表明:TiN涂层提高了贫铀的抗腐蚀性能。

关 键 词：多弧离子镀 铀 TIN 偏压

分 类 号：TG174.4] TB43]